Intel: Mit EUV-Lithografie zu 30 nm

Intel hat die weltweit erste EUV-Lithographie-Anlage in Betrieb genommen und vollzieht so den Schritt von der Forschung zur Entwicklung. Dank des Micro Exposure Tools (MET) will Intel ab 2009 die Produktion von Chips mit Strukturgrößen von 30 Nanometer anlaufen lassen. Mittels der EUV-Lithographie (Extreme Ultra Violet) wird erstmals seit 1997 die Wellenlänge mit 13,5 nm wieder kleiner als die Chipstruktur, doch gleichzeitig gilt es auch große Hürden zu überwinden. Die dabei entstehenden Herausforderungen werden vor allem von heise näher skizziert, während man sich bei Golem etwas kürzer fasst.

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