Intel: Mit EUV-Lithografie zu 30 nm

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JC schrieb am 02.08.2004 um 11:14

Skatan schrieb am 02.08.2004 um 11:19

klingt kompliziert, aufwendig, und vor allem teuer!

T3XT4 schrieb am 02.08.2004 um 11:57

Bin nur neugierig wie sie das erforderliche 13,5nm Licht erzeugen.

Hornet331 schrieb am 02.08.2004 um 13:16

Zitat von T3XT4
Bin nur neugierig wie sie das erforderliche 13,5nm Licht erzeugen.

mit einem laser, was sonst.

Smoldi schrieb am 03.08.2004 um 03:11

Zitat von Hornet331
mit einem laser, was sonst.

eben nicht.
lesen, dann posten.

mäxchen schrieb am 03.08.2004 um 10:55

Zitat von Smoldi
eben nicht.
lesen, dann posten.

nicht ganz zur hälfte hat er recht.
plasmalichtquellen oder durch laser

mfg

Smoldi schrieb am 03.08.2004 um 12:27

Zitat
Gegenwärtig favorisieren die Forscher Plasmalichtquellen, gezündet durch Entladung oder durch Laser.

mäxchen schrieb am 03.08.2004 um 12:45

Zitat von Smoldi

dann hät ich wohl besser mal den ganzen satz gelesen

gruß

RoNin schrieb am 03.08.2004 um 22:36

Intressant , jetzt würd mich nur noch interessieren wieso die damit wieder so lange warten... (2009)

Smoldi schrieb am 03.08.2004 um 22:40

unpackbar.
warum gebt ihr replies, obwohl ihr die news nicht gelesen habt?

RoNin schrieb am 03.08.2004 um 22:48

Zitat von Smoldi
unpackbar.
warum gebt ihr replies, obwohl ihr die news nicht gelesen habt?

hab se gut gelesen, der Link auf die Intel HP geht allerdings net

Zitat
Intel, bislang bei EUV äußerst auskunftsfreudig, hält sich beim EUV-Licht bedeckt und verweist auf Ankündigungen im Oktober

...anscheinend habens ja schon was im Kopf wie das funktionieren könnt.
Wenn se wollten könntens mit der Technologie sicher schon 2006 rausrücken, bzw. sie einsetzen...

Smoldi schrieb am 03.08.2004 um 23:04

nein.
da fehlt noch viel forschung und viel geld.
im moment ist diese anlage sozusagen im "beta" stadium.

SYSMATRIX schrieb am 03.08.2004 um 23:06

glaub kaum daß man bei intel sagen kann es fehlt an geld und mit beta stadium kann mans erst recht nicht vergleichen, die technologie dafür gibt es im moment nicht.

außerdem gibt es bei < 40nm schon derbst schwer zu lösende andere probleme die nicht direkt in verbindung mit dem prozess stehen.

Smoldi schrieb am 03.08.2004 um 23:16

ftp://download.intel.com/research/s...oils_080204.pdf
seite 7.

das meinte ich damit. vielleicht habe ich mich falsch ausgedrückt.